[发明专利]低掺混损失的轴向缝机匣实现方法有效

专利信息
申请号: 201610288382.1 申请日: 2016-05-03
公开(公告)号: CN105927589B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 朱铭敏;郑覃;王立;卢少鹏;羌晓青;滕金芳 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: F04D29/52 分类号: F04D29/52
代理公司: 上海交达专利事务所31201 代理人: 王毓理,王锡麟
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种低掺混损失的轴向缝机匣实现方法,首先在叶尖临界流动区域范围内确定处理缝在轴向上的处理范围及其轴向长度,在确定出处理缝的前端圆半径与后端圆半径之后,构造该两圆的内、外公切圆弧,得到的四段圆弧组成的完整轴向处理缝,本发明考虑了近失速点的叶尖流场结构以及叶尖基元几何特征,提高了处理缝的前端射流速度,减少了掺混损失,增强了对叶尖流动堵塞的抽吸效果,处理缝由四段圆弧组成,减少了流体在处理缝内产生的摩擦损失。
搜索关键词: 低掺混 损失 轴向 缝机匣 实现 方法
【主权项】:
一种低掺混损失的轴向缝机匣实现方法,其特征在于,首先在叶尖临界流动区域范围内确定处理缝在轴向上的处理范围及其轴向长度,确定出处理缝的前端圆半径与后端圆半径之后,构造该两圆的内、外公切圆弧,得到的四段圆弧组成的完整轴向处理缝;所述的前端圆半径r1取值范围为:后端圆半径r2的取值范围为:其中:D1为处理缝前端起始位置处的机匣直径,D2为处理缝后端终止位置处的机匣直径,N为处理缝数目,L为处理缝轴向长度;所述的外公切圆弧的半径内公切圆弧的半径其中:l=L‑r1‑r2,θ为外公切圆弧与前端圆的公切线和轴向方向的夹角。
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