[发明专利]防伪标识加密方法、防伪标识加密装置及其制作方法在审
| 申请号： | 201610288589.9 | 申请日： | 2016-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN105845023A | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 何炎权 | 申请（专利权）人： | 何炎权 |
| 主分类号： | G09F3/02 | 分类号： | G09F3/02 |
| 代理公司： | 北京创遇知识产权代理有限公司 11577 | 代理人： | 武媛;吕学文 |
| 地址： | 518029 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防伪标识加密方法、防伪标识加密装置及其制作方法，用以解决现有防伪技术存在易仿造且难鉴别，其在不同程度上降低了防伪的性能、效果及其实用性的问题。本发明的防伪标识加密方法包括：制作微透镜阵列层，所述微透镜阵列层包括分别位于所述微透镜阵列层两端面的出光面、图层基面，控制所述微透镜阵列层的聚焦距离，以使所述微透镜阵列层的聚焦距离等于所述出光面至所述图层基面的距离；在所述图层基面上设有防伪图层，所述防伪图层位于所述聚焦距离上，且所述防伪图层包括第一显示区，所述第一显示区具有与所述微透镜阵列层的阵列单元的大小及位置相匹配的第一防伪标识单元。 | ||
| 搜索关键词： | 防伪 标识 加密 方法 装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种防伪标识加密方法，其特征在于，包括：制作微透镜阵列层，所述微透镜阵列层包括分别位于所述微透镜阵列层两端面的出光面、图层基面，控制所述微透镜阵列层的聚焦距离，以使所述微透镜阵列层的聚焦距离等于所述出光面至所述图层基面的距离；在所述图层基面上设置防伪图层，所述防伪图层位于所述聚焦距离上，且所述防伪图层包括第一显示区，所述第一显示区具有与所述微透镜阵列层的阵列单元的大小及位置相匹配的第一防伪标识单元。
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