[发明专利]一种基于水流自组装技术的芯片互连布线方法有效
申请号: | 201610292920.4 | 申请日: | 2016-05-05 |
公开(公告)号: | CN105826247B | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 胡少坚;陈寿面;彭娟 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;尹英 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于水流自组装技术的芯片互连布线方法,通过在以水流自组装技术完成将芯片安装于目标衬底的步骤之后,采用图像扫描的模式识别方式确定芯片的旋转方向,以确定每个芯片的旋转误差,并据此算出引线接触孔开孔和金属布线线路的正确位置相关数据,从而确保了后续开孔与布线的正确性,避免了为克服水流自组装时产生的旋转误差,而对芯片电路和版图设计过多的要求,也不需要专门的冗余设计,使得封装芯片不需要具备功能上的选择对称性,降低了芯片设计的难度,节省了芯片面积,从而降低了相关成本,提高了水流自组装技术的可应用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 水流 组装 技术 芯片 互连 布线 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于水流自组装技术的芯片互连布线方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S01:利用水流自组装技术,将待封装的芯片安装在目标衬底上形成阵列;步骤S02:对芯片阵列进行图像识别扫描,确定每个芯片的旋转误差;步骤S03:在芯片阵列上依次形成保护膜和介质层;步骤S04:根据旋转误差,计算出每个芯片引线接触孔的正确位置,并据此对介质层和保护膜进行引线接触孔开孔;步骤S05:进行接触孔金属填充以及布线金属层淀积;步骤S06:根据旋转误差,计算出芯片阵列的布线图形,并据此对布线金属层进行图案化,形成金属布线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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