[发明专利]一种光-磁双重刺激响应型表面活性剂在审
| 申请号： | 201610294378.6 | 申请日： | 2016-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN105921068A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 蒋建中;马宇萱;杜盛郁;陈宇开;陈钊炀;余诗洁;汪良 | 申请（专利权）人： | 江南大学 |
| 主分类号： | B01F17/18 | 分类号： | B01F17/18;B01F17/42;C07C245/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214122 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光‐磁双重刺激响应型表面活性剂，该表面活性剂在光和磁场作用下，表面张力、接触角发生改变，即该表面活性剂具有双重刺激响应性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双重 刺激 响应 表面活性剂 | ||
【主权项】：
一种光‑磁双重刺激响应型表面活性剂，其特征在于该表面活性剂在紫外光照或者磁场作用下表面张力、接触角发生改变，即该表面活性剂具有光‑磁双重刺激响应性，其结构为：![]()
其中，R1是H或碳素为1～12直链或支链的任意一种烷基；R2是碳素为1‑16的直链或支链任意一种烷基；R3是碳素为1～3的任意一种直链烷基；X是Fe、Gd、Ce、Ho中的任意一种；Y是Cl、Br、I中的任意一种。
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