[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其制作工艺有效
| 申请号： | 201610298129.4 | 申请日： | 2016-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN105776893B | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 庄宇;吴斌;黄辉;陈波 | 申请（专利权）人： | 上海耀皮玻璃集团股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋;侯潇潇 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种低辐射镀膜玻璃及其制作工艺，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基底和设置于玻璃基底表面的镀层，所述镀层包括金属钨层，所述金属钨层的厚度为2‑7nm，所述镀层的厚度为180‑220nm。所述低辐射镀膜玻璃采用溅射工艺制备得到。所述低辐射镀膜玻璃能够在满足高遮阳、中性色的前提下尽可能的降低玻璃面反射的亮度从而很好的抑制了光污染的发生，具有室内外低反射的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 及其 制作 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底和设置于玻璃基底表面的镀层，其特征在于，所述镀层包括金属钨层，所述金属钨层的厚度为2‑7nm，所述镀层的厚度为180‑220nm；具体地，所述镀层自玻璃基底向外依次为介质阻挡层、金属钨层、第一金属银层、金属铜层、第一合金金属保护层、第一干涉层、第一介质层、第二干涉层、第二金属银层、第二合金金属保护层和第二介质层；所述第一干涉层及第二干涉层均为氧化锌铝；所述金属钨层通过溅射工艺得到，操作条件为：直流单靶，靶材为钨，气体成份为纯氩，气压为3.4×10‑3mbar。
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