[发明专利]一种基板的表面处理工艺有效
申请号: | 201610301332.2 | 申请日: | 2016-05-09 |
公开(公告)号: | CN105957800B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 余璇;于晓明;陈立桥;潘洪军 | 申请(专利权)人: | 浙江海洋大学 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;C03C23/00 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 316000 浙江省舟*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种基板的表面处理工艺,将基板浸入玻璃洗涤剂内,洗净后用去离子水清洗;浸入附着力促进液中,超声处理然后取出加入丙酮超声处理取出后使用去离子水冲洗,然后使用氮气将基板吹干;浸泡在有机溶剂内,避光保存。本发明使用清洗、超声、冲洗、干燥、浸泡处理工艺处理的基板材料,能够利用有机溶剂与基板表面的缓慢反应最大限度的去除表面油污残留,并改善基板表面浸润性,能够增强基板后续镀膜的附着力及均匀性,该方法操作简单,无需其他处理设备,可在室温下空气中制备,与大面积商业化生产制备工艺相兼容。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 处理 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种基板的表面处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:a)清洗:将基板浸入玻璃洗涤剂内,洗净后用去离子水清洗;b)超声处理:将步骤a)得到的基板浸入附着力促进液中,超声处理45‑60min;然后取出加入丙酮超声处理15‑30min,取出后使用去离子水冲洗,然后使用氮气将基板吹干;附着力促进液由以下重量份的原料制成:羟乙基纤维素10‑15份、正硅酸甲酯20‑35份、海藻泥5‑10份、乙酸乙酯80‑100份、硅烷偶联剂15‑25份与氢氟酸1‑5份;c)浸泡保存:将步骤b)得到的基板浸泡在有机溶剂内,避光保存。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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