[发明专利]一种红黄光发光二极管外延片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610301831.1 申请日: 2016-05-09
公开(公告)号: CN105914273B 公开(公告)日: 2018-07-31
发明(设计)人: 王世俊;邢振远;李彤;董耀尽 申请(专利权)人: 华灿光电(苏州)有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/30;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 215600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种红黄光发光二极管外延片及其制备方法,属于半导体技术领域。外延片包括N型衬底、N型缓冲层、N型反射层、N型限制层、电子阻挡层、多量子阱层、空穴调整层、P型限制层、P型电流扩展层、P型欧姆接触层,电子阻挡层包括AlGaInP层和AlInP层,空穴调整层包括第一子层和至少两层第二子层,第一子层为非掺杂的AlInP层,第二子层包括P型掺杂的AlInP层和非掺杂的AlInP层,P型掺杂的AlInP层的掺杂浓度小于P型限制层的掺杂浓度。本发明通过电子阻挡层延缓电子达到多量子阱层,空穴调整层使得空穴均匀分布在临近多量子阱层的区域,增加电子和空穴的复合几率,提高发光二极管的发光效率。
搜索关键词: 一种 红黄光 发光二极管 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种红黄光发光二极管外延片,所述红黄光发光二极管外延片包括N型衬底、以及依次层叠在所述N型衬底上的N型缓冲层、N型反射层、N型限制层、多量子阱层、P型限制层、P型电流扩展层、P型欧姆接触层,其特征在于,所述红黄光发光二极管外延片还包括层叠在所述N型限制层和所述多量子阱层之间的电子阻挡层、以及层叠在所述多量子阱层和所述P型限制层之间的空穴调整层,所述电子阻挡层包括AlGaInP层和AlInP层,所述空穴调整层包括第一子层和至少两层第二子层,所述第一子层设置在所述多量子阱层上,所述第一子层为非掺杂的AlInP层,所述第二子层包括P型掺杂的AlInP层和非掺杂的AlInP层,所述P型掺杂的AlInP层的掺杂浓度小于所述P型限制层的掺杂浓度。
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