[发明专利]一种岩层真倾角和真走向的测量系统及方法有效

专利信息
申请号: 201610302105.1 申请日: 2016-05-09
公开(公告)号: CN105783849B 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 张瑞;禚喜准;尹红芳 申请(专利权)人: 辽宁工程技术大学
主分类号: G01B21/22 分类号: G01B21/22;G01C9/00
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 代理人: 胡晓男
地址: 123000*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种岩层真倾角和真走向的测量系统及方法,系统包括:激光器、倾角测量装置、走向测量装置、处理器;所述激光器分别与所述倾角测量装置和所述走向测量装置连接,所述处理器分别与所述倾角测量装置、所述走向测量装置连接。方法包括:测量待测岩层与巷道一帮的相交线的第一视倾角和第一视走向;测量待测岩层与巷道另一帮的相交线的第二视倾角和第二视走向;根据待测岩层与巷道一帮的相交线的第一视倾角和第一视走向、待测岩层与巷道另一帮的相交线的第二视倾角和第二视走向,求解所述待测岩层的真倾角和真走向。通过岩层面上任意两条非平行直线的走向和倾角,可以快速测量计算岩层的真倾角和真走向,方法简单便利,准确可靠。
搜索关键词: 一种 岩层 倾角 走向 测量 系统 方法
【主权项】:
1.一种岩层真倾角和真走向的测量系统,包括:发射激光信号至待测岩层与巷道帮部的相交线的激光器;测量待测岩层与巷道帮部的相交线的视倾角的倾角测量装置;测量待测岩层与巷道帮部的相交线的视走向的走向测量装置;根据待测岩层与巷道帮部的相交线的视倾角与视走向计算所述待测岩层的真倾角和真走向的处理器;所述激光器分别与所述倾角测量装置和所述走向测量装置连接,所述处理器分别与所述倾角测量装置、所述走向测量装置连接;其特征在于,所述处理器计算所述待测岩层的真倾角和真走向具体如下:所述处理器第一次判断测得的第一视走向β”1是否大于180°:若β”1>180°,则令β'1=β”1‑180°;若β”1<180°,则令β'1=β”1;所述处理器第二次判断测得的第二视走向β”2是否大于180°:若β”2>180°,则令β'2=β”2‑180°;若β”2<180°,则令β'2=β”2;所述处理器第三次判断所述β'1是否小于所述β'2:若β'1<β'2,则令α1=α'1,α2=α'2,β1=β'1,β2=β'2;若β'1>β'2,则令α1=α'2,α2=α'1,β1=β'2,β2=β'1;其中的α1是第一视倾角,α2是第二视倾角,β1是第一视走向,β2是第二视走向;计算待测岩层的真倾角α:计算待测岩层的真走向β:
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