[发明专利]一种亚微米量级的玻璃亚表面缺陷检测装置及方法有效
申请号: | 201610302192.0 | 申请日: | 2016-05-09 |
公开(公告)号: | CN105842257B | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 高万荣;伍秀玭;张运旭;郭英呈;朱珊珊;史伟松;刘浩;廖九零;朱越;卞海溢 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 薛云燕 |
地址: | 210094 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种亚微米量级的玻璃亚表面缺陷检测装置及方法。该装置光源部分包括超连续发光光谱光源和单模光纤环形器;参考臂和样品臂部分包括第一准直透镜、45°柱形反射镜、参考物镜、参考反射镜、二维扫描振镜、样品物镜和待测件;探测臂部分包括第二准直透镜、透射光栅、聚焦透镜、光电探测器和计算机。方法为:参考臂和样品臂的光沿原路返回到单模光纤环形器,两臂光束相遇产生干涉;干涉光束经透射光栅分光后,再由聚焦透镜聚焦在光电探测器的不同像元上,光电探测器将采集到的信号输入计算机,进行处理得到不同位置的断层图像。本发明采用超宽带光源,高倍数值孔径成像物镜,以及共光路成像结构,获取了亚微米量级的玻璃亚表面裂纹三维结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 微米 量级 玻璃 表面 缺陷 检测 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种亚微米量级的玻璃亚表面缺陷检测装置,该装置基于双光束低相干干涉成像原理,包括光源部分、参考臂与样品臂部分、探测臂部分,其中光源部分包括超连续发光光谱光源(1)和单模光纤环形器(2);参考臂和样品臂部分包括第一准直透镜(3)、参考反射镜(6)、二维扫描振镜(7)、样品物镜(8)和待测件(9);探测臂部分包括第二准直透镜(10)、聚焦透镜(12)、光电探测器(13)和计算机(14);其特征在于:所述参考臂和样品臂部分还包括45°柱形反射镜(4)、参考物镜(5),探测臂部分还包括透射光栅(11);所述超连续发光光谱光源(1)发出宽带光束后,进入单模光纤环形器(2)的输入端口1,接着光束从单模光纤耦合器(2)的输出端口2出射,经过第一准直透镜(3)后,光束在空间域沿着第一准直透镜(3)的光轴传播;经第一准直透镜(3)后传播的一部分光束进入参考臂,首先照射到45°柱形反射镜(4)上,经反射落在参考物镜(5)上,经参考物镜(5)聚焦后的光束最后入射至参考反射镜(6);经第一准直透镜(3)后传播的其余光束沿光轴继续传播进入样品臂,然后经二维扫描振镜(7)反射后入射至样品物镜(8)上,样品物镜(8)聚焦后的光束最后落在待测件(9)上;由于光的可逆性,参考臂和样品臂的光束分别从参考反射镜(6)和待测件(9),沿原路返回到单模光纤环形器(2)的输出端口2,两臂光束相遇产生干涉;干涉光束再从单模光纤环形器(2)的输出端口3出射,发散光束经过第二准直透镜(10)后形成平行光,该平行光入射至透射光栅(11)上,然后经透射光栅(11)分光,各波长的干涉光以不同的出射角发散开来,接着入射至聚焦透镜(12),聚焦透镜(12)将不同角度的干涉光聚焦在光电探测器(13)的不同像元上,最后光电探测器(13)将采集到的信号输入计算机(14),进行后续图像重建处理,从而得到不同位置的断层图像。
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