[发明专利]超薄硅胶膜的制备工艺及超薄硅胶膜在审

专利信息
申请号: 201610304324.3 申请日: 2016-05-10
公开(公告)号: CN106003641A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 许彩霞;陈春元;孙金永 申请(专利权)人: 深圳市摩码克来沃化学科技有限公司
主分类号: B29C47/00 分类号: B29C47/00;B65B33/00;C08L83/07;C08L83/05;C08K3/36;C08K3/22;B29L7/00
代理公司: 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 代理人: 何婷
地址: 518057 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及硅胶制备技术领域,具体涉及一种超薄硅胶膜的制备工艺及一种由该制备工艺制备的超薄硅胶膜。该制备工艺包括将硅胶制备原料均匀混合形成的硅胶混合物通过挤出成型机的狭缝挤出至气垫悬浮式烘干通道中进行烘烤得到成型的超薄硅胶膜的步骤,所述超薄硅胶膜的厚度为10μm~500μm,所述烘干通道中热空气形成气垫层。本发明的超薄硅胶膜的制备工艺采用狭缝挤出再悬浮烘干的方式,制备的硅胶膜厚度范围广,厚度易调节,硅胶膜无气孔,并且大大提高了生产效率,能够实现大规模生产;封闭式狭缝挤出成型,污染问题少;热空气垫悬浮烘烤,使薄膜均匀受热。
搜索关键词: 超薄 硅胶 制备 工艺
【主权项】:
一种超薄硅胶膜的制备工艺,其特征在于,该制备工艺包括将硅胶制备原料均匀混合形成的硅胶混合物通过挤出成型机的狭缝挤出至气垫悬浮式烘烤通道中进行烘烤得到成型的超薄硅胶膜的步骤,所述超薄硅胶膜的厚度为10μm~500μm,所述烘干通道中热空气形成气垫层。
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