[发明专利]一种高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法

摘要

本发明提供了一种高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法。所述的方法首先采用普通清洗方法以去除元件表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清洗剂溶液中浸润，经脱水处理后再去除表面氧化物；利用清洗剂溶液和清水分别对元件进行两次高压喷淋精密清洗，最后进行脱水处理。本发明的高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置的铜、铝元件清洁，污染物去除效果好，元件表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效的特点。清洗后铜、铝元件的表面洁净度等级优于BJD 100级‑A/10A。

主权项

1.一种高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法，其特征在于，包括以下步骤：a1.用纯水冲洗元件表面；a2.对元件进行脱水处理；a3.将元件浸泡于清洗剂溶液中，使元件充分浸润；a4.使用清水，采用高压喷淋清洗的方式对元件进行清洗；a5.将元件浸泡于酸性溶液中，去除元件表面的氧化物；a6.使用清水，采用高压喷淋清洗的方式对元件进行清洗；a7.使用清洗剂溶液对元件进行高压喷淋清洗；a8.使用清水，采用高压喷淋清洗的方式对元件进行清洗；a9.对元件进行脱水处理；a10.使用清洗剂溶液，对元件进行喷淋清洗；a11.使用清水，对元件进行喷淋清洗；a12.对元件进行脱水处理；所述的步骤a1的纯水的电阻率大于等于5MΩ·cm；所述的步骤a4、a6、a8、a11的清水的电阻率大于等于15MΩ·cm；所述的步骤a3的清洗剂溶液为布鲁林GD‑815，浓度为60g/L，温度为45℃~75℃；所述的步骤a7、a10的清洗剂溶液为体积比为5%的布鲁林GD‑1990溶液；所述的步骤a4、a6、a7、a8的高压喷淋清洗过程中出水压力为7MPa~17MPa，出水口距铜、铝元件表面50mm~100mm；清洗速率小于等于0.2m2/min，温度为50℃~60℃；所述的步骤a5的酸性溶液为体积比为10%的硝酸与体积比为3%的氢氟酸的混合液体，温度为25℃；所述的步骤a10、a11的喷淋清洗过程中出水压力为7MPa~17MPa，出水口距铜、铝元件表面50mm~100mm；清洗速率小于等于0.15m2/min，温度为55℃~65℃；所述的元件材料为铜合金或铝合金。