[发明专利]一种以水滑石为模板构建无基底连接二维普鲁士蓝类化合物纳米片的方法有效

专利信息
申请号: 201610307227.X 申请日: 2016-05-10
公开(公告)号: CN105967207B 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 林彦军;杨阳;李劭;李凯涛 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C01C3/12 分类号: C01C3/12;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司 11108 代理人: 张洪年
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了属于无机纳米材料制备技术领域的一种以水滑石为模板构建无基底连接二维普鲁士蓝类化合物纳米片的方法。本发明的技术方案为:选用可插层的水滑石为模板,插层亚铁氰根离子,加入三价金属离子原位配合在层间构建普鲁士蓝类化合物,最后使用无机酸溶解水滑石层板得到无基底连接二维普鲁士蓝类化合物纳米片;所制得的二维普鲁士蓝类化合物纳米片一次粒径均匀且集中在纳米分布。采用该方法制备的无基底连接二维普鲁士蓝类化合物纳米片结构单一,无除氰基外特征官能团;比表面积大,表面氰基配位不饱和,具有较高活性。
搜索关键词: 一种 滑石 模板 构建 基底 连接 二维 普鲁士 化合物 纳米 方法
【主权项】:
1.一种以水滑石为模板构建无基底连接二维普鲁士蓝类化合物纳米片的方法,其特征在于,所述的无基底连接二维普鲁士蓝类化合物纳米片的化学式为M3+4[Fe2+(CN)6]3,其中M3+是Fe3+或Cr3+;所述的方法的具体制备步骤为:A.用乙醇配制浓度为0.005‑0.5mol/L的可插层的水滑石前体悬浮液;将亚铁氰化钾溶于除去CO2的去离子水中配制成浓度为0.00125‑5mol/L的溶液;在氮气保护下,将两者快速混合,亚铁氰根离子与可插层的水滑石前体的层间阴离子的摩尔比为0.6‑2:1,在40‑60℃温度下,搅拌晶化6‑20小时,过滤、洗涤,得到亚铁氰根离子插层水滑石;B.将步骤A的亚铁氰根离子插层水滑石分散于甲醇,配制成浓度为0.0005‑10mol/L的亚铁氰根离子插层水滑石悬浮液;将三价金属盐溶于甲醇中配制成0.00025‑1.5mol/L的溶液;在氮气保护下,将两者快速混合,其中三价金属离子与亚铁氰根离子摩尔比为0.5‑5:1,室温下搅拌反应4‑24小时,过滤、洗涤,干燥得到层间为普鲁士蓝类化合物的水滑石复合材料;C.将步骤B中得到的水滑石复合材料溶于pH为0‑1的无机酸中,离心、干燥即得无基底连接二维普鲁士蓝类化合物纳米片。
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