[发明专利]水平磁场结构的电感结构在审
| 申请号： | 201610307251.3 | 申请日： | 2016-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN105932014A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 张凌越 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/64 | 分类号： | H01L23/64 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种水平磁场结构的电感结构，包括：处于第一金属层中的第一金属布线、处于第二金属层中的第二金属布线、连接第一金属布线和第二金属布线的导电通孔、布置在第一金属层与第二金属层之间的铁磁性材料层；第一、第二金属层的相关布线，导电通孔和铁磁性材料层共同形成水平磁场结构的电感。 | ||
| 搜索关键词： | 水平 磁场 结构 电感 | ||
【主权项】：
一种水平磁场结构的电感结构，其特征在于包括：处于第一金属层中的第一金属布线、处于第二金属层中的第二金属布线、连接第一金属布线和第二金属布线的导电通孔、布置在第一金属层与第二金属层之间的铁磁性材料层；第一、第二金属层的相关布线，导电通孔和铁磁性材料层共同形成水平磁场结构的电感。
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