[发明专利]一种应用栽培基质和营养液的人参栽培方法有效
申请号: | 201610309960.5 | 申请日: | 2016-05-11 |
公开(公告)号: | CN105961159B | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 赵亮;苏忠民;李鹿 | 申请(专利权)人: | 东北师范大学 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00;A01G31/02;A01G22/25 |
代理公司: | 长春市东师专利事务所 22202 | 代理人: | 刘延军;李荣武 |
地址: | 130024 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明属于药用植物设施栽培技术领域,具体涉及一种应用栽培基质和营养液的人参栽培方法,实现在同一温室环境下的人参全年多茬栽培,主要步骤包括:人参育苗、移栽定植、营养液栽培、废弃基质和培养液再利用等。该方法可为多茬营养液人参栽培提供稳定参苗供给,同时可克服栽培基质培育大龄人参需要额外添加培养基、周期长等缺陷,又可简化传统营养液栽培所用参苗需要经过缓苗、炼苗等步骤。栽培后废弃基质和营养液直接用于蔬菜等栽培,实现参菜连作,提高温室、栽培基质和营养液利用率,显著降低设施栽培人参成本。所收获鲜人参可用作蔬菜沙拉、包饭和参鸡汤等食材原料,通过人参食品消费提高公众对人参认知度与认可度,促进人参产业发展。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用 栽培 基质 营养液 人参 方法 | ||
【主权项】:
1.一种应用栽培基质和营养液的人参栽培方法,其特征是包括以下具体步骤:1 ). 温室环境控制温室是一封闭环境,在通风口和入口处安装防虫网进行害虫防治,首先用10%‑20%辣根素进行大棚封闭病菌消杀,消毒后温室封闭2‑3日后自然通风1‑2日,栽培期间温室温度保持在18‑28℃,湿度70‑90%,温度高于28℃开启棚内通风降温设备;2).人参立体化育苗在栽培槽上铺设基底土,并在基底土上整齐摆放人参育苗专用压缩型基质;压缩基质间距2cm , 每平方米摆放200块;压缩基质上先喷一遍小水,使表面湿润,再用小水流从栽培槽边缘灌水使水淹没压缩基质,直到完全吸足吸透水,疏松膨胀,无硬芯,然后在压缩基质的预置孔穴内点入经过催芽处理后的人参种子;3).人参苗移栽定植首先用自来水冲洗压缩基质立体化培育参苗,洗掉附着在参根上的栽培基质,然后在100 ppm GA3中浸泡3h,随后用无菌水清洗3次;将清洗后人参苗移栽到定植板中,通过套入聚氨酯海绵块3×3×3 cm进行植株固定,尽量避免固定植株的聚氨酯海绵块吸水受潮,植株间距离保持在7×9 cm,每个定植板定植70株人参;人参营养液栽培系统包括:栽培槽、定植板、输液管及喷头、营养液储存罐,栽培槽为透明塑料材质,内衬聚乙烯防水膜,外层为保温层,保温层可拆卸且附加观察窗,保温层选用EPS泡沫塑料,栽培槽中包括营养液输送管、雾化喷头以及位于底部的排水口,栽培槽高度设计同时满足人参育苗以及营养液栽培人参生长需要,规格为95×50×25cm高度;4)人参营养液栽培人参营养液栽培采用气雾栽培与深液流栽培结合方式,人参栽培营养液按照SH培养基中无机盐包括微量元素配方稀释,pH值保持在5 .8‑6 .0,pH调整完毕后,用高压灭菌锅在121℃、1 .2 kg/cm2压力下灭菌20min;初期采用间歇喷雾技术,营养液通过喷雾嘴喷射到参苗的根部,喷雾后未吸收的营养液通过栽培槽排水口收集进入营养液储存罐循环利用,喷雾量为2L/min,喷嘴压力为0 .2Mpa,白天每15min喷雾60s , 晚上每30min喷雾30s,夏天高温季节,喷雾间隔时间缩短5min,气雾栽培营养液参考配方为:NO3‑N 12 .0 ,NH4‑N 1.0, K;8 .0 , Ca 4 .0 , Mg 2 .0 , PO4‑P 3 .0 , SO4‑S 2 .0,单位:mg/L,大量元素, Fe‑EDTA 0 .6 , Mn0 .5 , B 0 .5 , Cu 0 .02 , Mo 0 .05和 Zn 0 .05单位:mg/L,微量元素,气雾栽培阶段营养液电导率值保持在0 .7‑0 .9dS/m;经过30天诱导气生根后改为深液流栽培方法,深液流栽培中通入过滤空气来增加营养液中氧气供给,供气速率30L/min,白天每15min供气1次,每次5min,夜晚每30min供气1次,每次5min,深液流栽培过程中根据人参植株生长情况调整定植板与营养液液面之间距离并逐步添加营养液,营养液液面高度保持浸入人参根部1/3‑1/2,初始营养液添加高度7cm,深液流栽培30天后,达到最大营养液添加量,高度不超过20cm,深液流栽培所用营养液参考配方为:NO3‑N 4.0,NH4‑N 0.2 ,K 3 .0 , Ca 1.0,Mg 1.0, PO4‑P 1 .0 , SO4‑S 1 .0 mg /L大量元素;Fe‑EDTA 0 .6, Mn 0 .5 , B 0 .5 , Cu 0 .02 , Mo 0 .05和 Zn 0 .05 mg/L微量元素,深液流栽培阶段电导率值保持在0 .9‑1 .1dS/m;整个栽培期间更换3次营养液,第一次在气雾栽培结束后,即营养液栽培30天后,第二次在营养液栽培第60天后,第三次在营养液栽培第90天后;5) 栽培基质与营养液联合应用栽培模式栽培基质与营养液联合应用包括在供热与非供热温室环境中进行两种模式,两种模式均从利用压缩基质点籽育苗开始,非供热温室栽培基质育苗与营养液连续栽培,该模式温室冬季不需要供热栽培基质育苗生长期为8个月,营养块培育参苗在温室中生长至自然枯萎,对于其中部分参苗,待到第二年3月初时通过搭设小拱棚提高温度,促进人参提前出苗,另一部分参苗收获后转移至冷藏室中保存至7月初,经过增温缓苗和解除休眠处理后再进行第2批营养液栽培,所提出的供热温室栽培基质育苗与营养液连续栽培,栽培基质育苗期为4个月,经过营养液栽培3‑4个月后,第一茬压缩基质育苗从3月初到7月初,育苗结束后将参苗置于冷藏室保存3个月,经过增温缓苗和解除休眠处理后进行第1批营养液栽培,此时温室需要3个月左右供热期,第二茬营养块育苗是7月初至11月初,参苗在温室内生长至自然枯萎后完成休眠过程,直到来年3月初,然后采取与非供热温室相同技术措施进行第2批和第3批营养液栽培,为实现压缩基质培育参苗的多批次营养液栽培,两种栽培模式均需要在低温冷藏环境下使参苗完成休眠或延长保存期,冷藏室温度保持在2℃,每个参苗低温保存周期时间不低于3个月,非供热温室中营养液栽培二茬人参需要1个低温冷藏保存周期,供热温室中营养液栽培三茬人参需要2个冷藏保存周期;6 ) 废弃栽培基质与营养液循环利用将实施中所产生的废弃基质和营养液收集保存,用于参菜或者参果连作栽培。
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