[发明专利]一种量子阱结构的大功率半绝缘AlGaAs/GaAs光导开关及制作方法有效

专利信息
申请号: 201610313467.0 申请日: 2016-05-12
公开(公告)号: CN105826422B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 栾崇彪;肖金水;王波;黄宇鹏;李洪涛;谢卫平 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
主分类号: H01L31/10 分类号: H01L31/10;H01L31/0352
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司51214 代理人: 詹永斌
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了量子阱结构的大功率半绝缘AlGaAs/GaAs光导开关,包括GaAs基层,所述GaAs基层的电极面的电极区域上外延生长一层高掺杂n+‑GaAs,高掺杂n+‑GaAs层表面淀积有金属层,GaAs基层电极面的电极之间生长一层高反膜,述GaAs基层背电极面外延生长一层AlGaAs,AlGaAs层与GaAs基层之间形成三角形势阱结构AlGaAs表面生长一层增透膜,光导开关的导通电阻小于为0.45Ω。本发明在使用波长1064 nm、能量5.4mJ、触发激光脉宽25 ns的激光脉冲触发光导开关,在脉冲电压9.8 kV时,光导开关的导通电阻仅为0.45Ω,开关在工作电压9.8kV、重复频率1kHz条件下寿命大于100万次,大大提高了光导开关的使用寿命。
搜索关键词: 一种 量子 结构 大功率 绝缘 algaas gaas 开关
【主权项】:
一种量子阱结构的大功率半绝缘AlGaAs/GaAs光导开关,其特征在于包括GaAs基层,所述GaAs基层的电极面的电极区域上外延生长一层高掺杂n+‑GaAs,所述高掺杂n+‑GaAs层表面淀积有金属层,所述GaAs基层电极面的电极之间生长一层高反膜,所述GaAs基层背电极面外延生长一层AlGaAs,所述AlGaAs层与GaAs基层之间形成三角形势阱结构,所述AlGaAs表面生长一层增透膜,所述AlGaAs/GaAs光导开关的导通电阻为0.45 Ω。
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