[发明专利]一种快速制备多元氧化物薄膜的激光化学气相沉积设备在审
| 申请号： | 201610315784.6 | 申请日： | 2016-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN105925961A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 涂溶;汪婷;章嵩;可望;张联盟 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C23C16/48 | 分类号： | C23C16/48;C23C16/52;C23C16/40 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 崔友明 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种快速制备多元氧化物薄膜的激光化学气相沉积设备，包括沉积腔体、进气装置和激光发生器，沉积腔体内设有工作台，沉积腔体上设有激光引入窗，激光发生器发射的激光透过激光引入窗照射到工作台上，进气装置包括进气管，进气管的出气端插入沉积腔体内，进气管的出气口设置于工作台上方，沉积腔体底部设有真空泵。沉积速度快，所得多元氧化薄膜的成分控制精确，实现多层膜的一次沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 制备 多元 氧化物 薄膜 激光 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种快速制备多元氧化物薄膜的激光化学气相沉积设备，其特征在于，包括沉积腔体、进气装置和激光发生器，沉积腔体内设有工作台，沉积腔体上设有激光引入窗，激光发生器发射的激光透过激光引入窗照射到工作台上，进气装置包括进气管，进气管的出气端插入沉积腔体内，进气管的出气口设置于工作台上方，沉积腔体底部设有真空泵。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
