[发明专利]一种复合传感器及制造方法有效

专利信息
申请号: 201610316602.7 申请日: 2016-05-12
公开(公告)号: CN105905866B 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 朱二辉;周志健;陈磊;杨力建;邝国华 申请(专利权)人: 广东合微集成电路技术有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B3/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 孟金喆,胡彬
地址: 523808 广东省东莞市松山*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及传感器加工技术领域,尤其涉及复合传感器及制造方法,复合传感器,包括,硅衬底,硅衬底中的至少一个第一预定空腔、至少一个第二预定空腔、至少一个第三预定空腔;在硅衬底表面预定位置形成有若干个用以形成加速度传感器、压力传感器、温度传感器的半导体掺杂电阻,半导体掺杂电阻与导电线电连接;于至少一个第一预定空腔上方的悬空硅膜形成第一释放槽,于至少一个第三预定空腔上方的悬空硅膜中形成第二释放槽,第一释放槽结合第二释放槽形成一悬空释放结构;加速度传感器可动结构外部设置有限位挡板,该限位挡板具有精确的过载限位保护作用,另外其过载限位装置的结构简单,制作过程相对较容易掌握,有利于产品的批量生产。
搜索关键词: 一种 复合 传感器 制造 方法
【主权项】:
一种复合传感器,其特征在于,包括,硅衬底,形成于所述硅衬底内的至少一个第一预定空腔及其上方的悬空硅膜、至少一个第二预定空腔及其上方的悬空硅膜,以及位于所述至少一个第一预定空腔上方的悬空硅膜中的至少一个第三预定空腔及其上方的悬空硅膜;在所述硅衬底表面预定位置形成有若干个用以分别形成加速度传感器、压力传感器、温度传感器的半导体掺杂电阻,所述半导体掺杂电阻与导电线电连接;于所述至少一个第一预定空腔上方的悬空硅膜中形成第一释放槽、第一连接件,所述第一释放槽避开所述半导体掺杂电阻设置;于所述至少一个第三预定空腔上方的悬空硅膜中形成第二释放槽、限位挡板,并形成第二连接件;所述第一释放槽结合所述第二释放槽形成一悬空释放结构;其中,所述限位挡板一端连接硅衬底,另一端自由悬空,所述第一连接件、第二连接件一端连接所述硅衬底,另一端与所述第一预定空腔上方的悬空硅膜连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东合微集成电路技术有限公司,未经广东合微集成电路技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610316602.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top