[发明专利]增加共享接触孔工艺窗口的方法

摘要

本发明提供了一种增加共享接触孔工艺窗口的方法，即对共享接触孔的版图进行修正，主要包括：首先根据共享接触孔与有源区及栅极的接触区域，将所述共享接触孔划分为两个区域；然后将所述两个区域分别沿平行于划分的方向进行扩展。本发明提供的方案中，通过将共享接触孔划分为单独的两个区域，使这两个区域可根据实际版图的状况进行修正，从而可增加共享接触孔的工艺窗口，确保所形成的共享接触孔与有源区及与栅极的连接无异常。

主权项

1.一种增加共享接触孔工艺窗口的方法，其特征在于，包括：步骤S11：提供一初始版图，所述初始版图包括多个共享接触孔对，所述共享接触孔对中的两个共享接触孔各自连接一个栅极和一个有源区，所述共享接触孔对连接的两个栅极相邻，并且，所述共享接触孔对连接的两个有源区相邻；步骤S12：将所述共享接触孔划分为两个区域，分别为位于有源区上的第一区域和位于栅极上的第二区域；步骤S13：将所述共享接触孔对中的两个第一区域沿平行于划分方向扩展一第一尺寸，将所述共享接触孔对中的两个第二区域沿平行于划分方向扩展一第二尺寸，所述第一区域和第二区域扩展的方向相反，并且所述共享接触孔对沿划分方向间距最近的两个区域沿着相互背离的方向扩展，以使所述共享接触孔对沿划分方向间距最近的两个区域的间距保持不变；步骤S14：执行光学邻近效应修正；步骤S15：输出修正后的版图。