[发明专利]形成图案的方法、磁性存储器装置及其制造方法在审
| 申请号： | 201610318799.8 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN106159081A | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 郑大恩;宋胤宗;申贤哲 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L43/12 | 分类号： | H01L43/12;H01L43/08 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张帆;崔卿虎 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种形成图案的方法、磁性存储器装置及其制造方法。所述形成图案的方法包括步骤：在衬底上形成蚀刻目标层；将蚀刻目标层图案化以形成图案；利用从第一离子源产生的第一离子束在图案的侧壁上形成绝缘层；以及利用从第二离子源产生的第二离子束去除绝缘层，其中第一离子源和第二离子源中的每一个包括绝缘源，并且其中绝缘源包括氧或氮中的至少一个。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 图案 方法 磁性 存储器 装置 及其 制造 | ||
【主权项】：
一种形成图案的方法，该方法包括步骤：在衬底上形成蚀刻目标层；将所述蚀刻目标层图案化以形成图案；利用从第一离子源产生的第一离子束在各图案的侧壁上形成绝缘层；以及利用从第二离子源产生的第二离子束去除所述绝缘层，其中，所述第一离子源和所述第二离子源中的每一个包括绝缘源，并且其中，所述绝缘源包括氧或氮中的至少一个。
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