[发明专利]用以减少图像记忆效应的带负电荷层有效

专利信息
申请号: 201610319934.0 申请日: 2013-08-07
公开(公告)号: CN105845699B 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 霍华德·E·罗兹;杨大江;陈刚;毛杜立;文森特·韦内齐亚 申请(专利权)人: 豪威科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 齐杨
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及用以减少图像记忆效应的带负电荷层。一种图像传感器像素包含安置于半导体层中的具有第一极性掺杂类型的光电二极管区。具有第二极性掺杂类型的钉扎表面层安置于所述半导体层中的所述光电二极管区上方。所述第二极性与所述第一极性相反。第一极性电荷层接近所述光电二极管区上方的所述钉扎表面层而安置。触点蚀刻停止层接近所述第一极性电荷层而安置于所述光电二极管区上方。所述第一极性电荷层安置于所述钉扎表面层与所述触点蚀刻停止层之间,使得第一极性电荷层抵消在所述触点蚀刻停止层中感应的具有第二极性的电荷。钝化层也安置于所述光电二极管区上方在所述钉扎表面层与所述触点蚀刻停止层之间。
搜索关键词: 用以 减少 图像 记忆 效应 负电荷
【主权项】:
1.一种图像传感器像素,其包括:光电二极管区,其具有第一极性掺杂类型,其安置于半导体层中;钉扎表面层,其具有第二极性掺杂类型,其安置于所述半导体层中的所述光电二极管区上方,其中所述第二极性与所述第一极性相反;第一极性电荷层,其接近所述光电二极管区上方的所述钉扎表面层而安置;触点蚀刻停止层,其接近所述第一极性电荷层而安置于所述光电二极管区上方,其中所述第一极性电荷层安置于所述钉扎表面层与所述触点蚀刻停止层之间,使得第一极性电荷层抵消在所述触点蚀刻停止层中感应的具有第二极性的电荷;金属堆叠层,其包含多个金属互连件,所述多个金属互连件直接安置于所述触点蚀刻停止层之上以提供电连接,其中所述触点蚀刻停止层响应于穿过所述金属堆叠层的光而感应具有所述第二极性的所述电荷;及钝化层,其安置于所述光电二极管区上方在所述钉扎表面层与所述触点蚀刻停止层之间,其中所述钝化层包含绝缘材料,其中所述钝化层包括安置于所述光电二极管区上方的多个钝化层,其中所述多个钝化层中的第一者安置于所述钉扎表面层与所述第一极性电荷层之间,且其中所述多个钝化层中的第二者安置于所述第一极性电荷层与所述触点蚀刻停止层之间。
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