[发明专利]掩膜集成框架及蒸镀设备有效
| 申请号： | 201610320002.8 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN105887010B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 嵇凤丽;白珊珊;梁逸南 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜集成框架及蒸镀设备，该掩膜集成框架包括框架以及设置在所述框架上的掩膜板，所述掩膜集成框架设置有对位标记，所述对位标记包括设置在所述框架上的第一对位孔以及设置在所述掩膜板上的第二对位孔，所述第二对位孔为通孔，所述第二对位孔在所述框架上的正投影位于所述第一对位孔的内壁上，所述第一对位孔为盲孔或者通孔，当所述第一对位孔为盲孔时，所述第一对位孔底部最深的位置位于所述第二对位孔在所述框架上的正投影之外。本发明提供的掩膜集成框架可以有效缓解由于框架上的对位孔中残留液体从而干扰对位的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 集成 框架 设备 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜集成框架，包括框架以及设置在所述框架上的掩膜板，所述掩膜集成框架设置有对位标记，所述对位标记包括设置在所述框架上的第一对位孔以及设置在所述掩膜板上的第二对位孔，所述第二对位孔为通孔，其特征在于，所述第二对位孔在所述框架上的正投影位于所述第一对位孔的内壁上，所述第一对位孔为盲孔或者通孔，当所述第一对位孔为盲孔时，所述第一对位孔底部最深的位置位于所述第二对位孔在所述框架上的正投影之外。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610320002.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
