[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201610320311.5 | 申请日： | 2016-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN105931985A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 姚琪;曹占锋;张锋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置，所述阵列基板的制作方法包括以下步骤：在衬底基板上形成具有凹陷区和凸起区的第一绝缘层；在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成透明导电薄膜；对所述透明导电薄膜进行图案化处理，以形成梳状的第一透明电极和梳状的第二透明电极，其中，所述第一透明电极的梳齿位于所述凹陷区，所述第二透明电极的梳齿位于所述凸起区。本发明提供的阵列基板的制作方法，像素电极与公共电极在一次构图工艺中同时形成，可以减少构图工艺次数，简化制作工艺，降低生产成本，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成具有凹陷区和凸起区的第一绝缘层；在形成有所述第一绝缘层的所述衬底基板上形成透明导电薄膜；对所述透明导电薄膜进行图案化处理，以形成梳状的第一透明电极和梳状的第二透明电极，其中，所述第一透明电极的梳齿位于所述凹陷区，所述第二透明电极的梳齿位于所述凸起区。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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