[发明专利]高压可见光通信LED器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610320739.X 申请日: 2016-05-16
公开(公告)号: CN105895653B 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 孙慧卿;黄鸿勇;黄涌;张柱定;黄晶;孙杰;杨晛;衣新燕;郭志友 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 邱奕才;郑永泉
地址: 510631 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种高压可见光通信LED器件及其制作方法,该器件包括沉积于衬底层上的若干个环形芯粒,所述若干个芯粒串联连接,所述芯粒依次包括沉积于衬底上的缓冲层、产生电子的n型层、电子空穴复合的量子阱层、产生空穴的p型层和透明电极,还包括n电极焊点和P电极焊点,所述若干个芯粒串联连接于n电极焊点和P电极焊点两端的电极线路,所述芯粒之间铺垫有二氧化硅,并通过刻蚀技术在二氧化硅上刻出为所述焊点预留的位置。
搜索关键词: 高压 可见 光通信 led 器件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种高压可见光通信LED器件的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:选用MOCVD系统,在衬底上生长具有量子阱结构的GaN/InGaN外延片;利用半导体平面工艺进行制备工作,通过芯片制备刻蚀工艺将外延片分成16个芯粒的分立型芯粒结构;刻蚀出的分立芯粒的n‑GaN层结构;在分立型芯粒的P型层上制备透明电极;在分立型芯粒之间铺垫二氧化硅,并通过刻蚀技术在二氧化硅上刻出为焊点预留的位置;在为焊点预留的位置制备n电极焊点和P电极焊点;将16个芯粒串联连接于p型焊点和n型焊点两端的电极线路。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南师范大学,未经华南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610320739.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top