[发明专利]一种测量薄膜折射率的方法在审
| 申请号： | 201610321923.6 | 申请日： | 2016-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN106018342A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 黄鸿;饶敬梅;李英欣;张顺聪;董保志;王向忠 | 申请（专利权）人： | 云南瑞博检测技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41;G01N21/31 |
| 代理公司： | 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙)14109 | 代理人： | 曹玉存;冷锦超 |
| 地址： | 650101 云南省昆明市经*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种测量薄膜折射率的方法，包括以下步骤：a.在玻璃基底上制备厚度为0.1um‑2um的反射金属层；b.将待测薄膜样品涂覆到反射金属层上并放入烘烤炉中完成待测薄膜样品的固化；c.采用台阶仪测量涂覆到反射金属层上的待测薄膜样品的厚度d；d.在待测薄膜样品上表面沉积厚度为2nm‑500nm的半反射金属层，完成谐振腔制作；将制备完成的谐振腔放入傅里叶光谱仪中，在2um‑25um波段测量谐振腔的特征吸收波段的峰值，将吸收峰值对应的波长λ记录下来；根据公式即可计算出待测薄膜样品的折射率n。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 薄膜 折射率 方法 | ||
【主权项】：
一种测量薄膜折射率的方法，其特征在于包括以下步骤：制样：a.在玻璃基底上制备厚度为0.1um‑2um的反射金属层；b.将待测薄膜样品涂覆到反射金属层上并放入烘烤炉中完成待测薄膜样品的固化；c.采用台阶仪测量涂覆到反射金属层上的待测薄膜样品的厚度d ；d.在待测薄膜样品上表面沉积厚度为2nm‑500nm的半反射金属层，完成谐振腔制作；检测：将制备完成的谐振腔放入傅里叶光谱仪中，在2um‑25um波段测量谐振腔的特征吸收波段的峰值，将吸收峰值对应的波长λ 记录下来；根据公式即可计算出待测薄膜样品的折射率n 。
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