[发明专利]胶粘薄膜、切割胶带一体型胶粘薄膜、多层薄膜、半导体装置的制造方法及半导体装置在审

专利信息
申请号: 201610329649.7 申请日: 2016-05-18
公开(公告)号: CN106167683A 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 宍户雄一郎;三隅贞仁;高本尚英;大西谦司 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02;B32B27/08;B32B27/20;B32B27/26;B32B27/36;B32B27/30;B32B27/38;B32B27/42;B32B3/04;B32B3/14;H01L21/50
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及胶粘薄膜、切割胶带一体型胶粘薄膜、多层薄膜、半导体装置的制造方法及半导体装置。本发明的目的在于提供可以减少接合线周边的空隙、并且可以减少突出的胶粘薄膜。本发明的目的还在于提供包含所述胶粘薄膜的切割胶带一体型胶粘薄膜、多层薄膜等。本发明涉及一种胶粘薄膜等,所述胶粘薄膜的120℃、频率0.1Hz的tanδ(损耗弹性模量G”/储能弹性模量G’)为0.7~2.0。
搜索关键词: 胶粘 薄膜 切割 胶带 体型 多层 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
一种胶粘薄膜,其中,所述胶粘薄膜的120℃、频率0.1Hz的tanδ(损耗弹性模量G”/储能弹性模量G’)为0.7~2.0。
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