[发明专利]具有主体下拉的场效应晶体管在审
申请号: | 201610333719.6 | 申请日: | 2016-05-19 |
公开(公告)号: | CN106206581A | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 布思·普里斯拉;麦尔思·阿尔然 | 申请(专利权)人: | 恩智浦有限公司 |
主分类号: | H01L27/092 | 分类号: | H01L27/092;H01L29/40 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 倪斌 |
地址: | 荷兰埃*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种场效应晶体管(FET)包括第一漏极、第二漏极、主体和栅极区。所述栅极区具有一定长度,并且被配置并布置成响应栅电压建立通道,所述通道在所述主体中,在所述第一漏极和所述第二漏极之间且沿着所述栅极区的所述长度。多个主体下拉位于所述栅极区中,并且沿着所述栅极区的宽度间隔开。为了偏置的目的,所述主体下拉中的每个主体下拉被配置并布置成提供与所述主体的电接触。 | ||
搜索关键词: | 具有 主体 下拉 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
一种设备,其特征在于,包括:场效应晶体管(FET),所述场效应晶体管(FET)包括:第一漏极;第二漏极;主体;栅极区,所述栅极区具有一定长度,并且被配置并布置成响应于栅电压建立通道,所述通道在所述主体中,在所述第一漏极和所述第二漏极之间且沿着所述栅极区的所述长度;以及多个主体下拉,所述多个主体下拉在所述栅极区中,并且沿着所述栅极区的宽度间隔开,所述多个主体下拉中的每个主体下拉被配置并布置成提供与所述主体的电接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的