[发明专利]一种薄膜制备装置有效
| 申请号： | 201610334001.9 | 申请日： | 2016-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN105964502B | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 高春红;孙卫伟;陈忠阳;王治强;熊自阳 | 申请（专利权）人： | 西南大学 |
| 主分类号： | B05C13/02 | 分类号： | B05C13/02;B05C5/02 |
| 代理公司： | 重庆华科专利事务所50123 | 代理人： | 何悦 |
| 地址： | 400715*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜制备装置，包括金属网、柔性基层、传送带、滴料机构和磁块，所述金属网平展的支撑固定在机架上，所述柔性基层平铺放置于金属网表面，所述滴料机构将液态的薄膜材料滴落在柔性基层表面上，传送带设在金属网下方并由所述驱动电机驱动匀速运动，所述多个磁块等间距的固设在传送带表面上。本装置能够提高薄膜均匀程度，并实现膜内部分子有序排列。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 制备 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜制备装置，其特征在于包括：金属网，所述金属网平展的支撑固定在机架上；柔性基层，所述柔性基层平铺放置于金属网表面；传送带，所述传送带设在金属网下方；驱动电机，所述驱动电机驱动所述传送带匀速运动；磁块，多个磁块等间距的固设在传送带表面上，与上方的金属网间留有一定间隙，其对金属网产生吸附力，使得金属网及附在其表面的柔性基层下凹，当磁块随传送带平移时，使金属网及柔性基层形成波动；滴料机构，所述滴料机构将液态的薄膜材料滴落在柔性基层表面上；所述滴料机构将薄膜材料间隔滴落，该间隔时间与传送带移动过相邻两磁块间距所需时间相同。
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