[发明专利]硅基异质接面太阳能电池及其制程方法在审

专利信息
申请号: 201610334675.9 申请日: 2016-05-19
公开(公告)号: CN107403852A 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 张金隆;杨茹媛;陈坤贤 申请(专利权)人: 盐城金合盛光电科技有限公司
主分类号: H01L31/074 分类号: H01L31/074;H01L31/20
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 代理人: 张秋越
地址: 224799 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种硅基异质接面太阳能电池及其制程方法。硅基异质接面太阳能电池,包含一硅基PN接面结构,具有两个相对表面,其中硅基PN接面结构是由一P型半导体层与一N型半导体基板所组成,N型半导体基板具有一第一糙化表面以及一第二糙化表面,且P型半导体层的能隙不同于N型半导体基板的能隙;其中,第一糙化表面以及第二糙化表面以经由一异向性蚀刻,以形成具有凹凸的一金字塔纹理化结构,金字塔纹理化结构的金字塔宽度在5微米至15微米之间,且金字塔锥顶高度在于4微米至10微米之间。借由无异丙醇的变温纹理化碱蚀刻,该硅基异质接面太阳能电池能具有高质量的纹理结构,改善其电流特性及提升光电转换效率的特性。
搜索关键词: 硅基异质接面 太阳能电池 及其 方法
【主权项】:
一种硅基异质接面太阳能电池,其特征在于,包含:一硅基PN接面结构,具有两个相对表面,其中该硅基PN接面结构是由一P型半导体层与一N型半导体基板所组成,该N型半导体基板具有一第一糙化表面以及一第二糙化表面,且该P型半导体层的能隙不同于该N型半导体基板的能隙;其中,该第一糙化表面以及该第二糙化表面以经由一异向性蚀刻,以形成具有凹凸的一金字塔纹理化结构,该金字塔纹理化结构的金字塔宽度在 5 微米至15 微米之间,且金字塔锥顶高度在于4微米至10微米之间。
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