[发明专利]一种尺寸可控的钨纳米点的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610339005.6 申请日: 2016-05-20
公开(公告)号: CN106024195B 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 唐静;金利华;王燕;张爽 申请(专利权)人: 陕西国际商贸学院
主分类号: H01B12/00 分类号: H01B12/00;H01B13/00;C23C18/52;B82Y40/00
代理公司: 西安永生专利代理有限责任公司61201 代理人: 曹宇飞
地址: 712000 陕西省西安*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种尺寸可控的钨纳米点的制备方法,其采用化学溶液沉积的方法在NiW基底上制备尺寸均匀的钨纳米点,通过步骤(1)采用钨酸铵为前驱体配制前驱溶液;步骤(2)采用旋涂或浸涂方法将前驱溶液涂敷在衬底上;步骤(3)将涂敷溶液的衬底进行热处理得到钨纳米点,本发明可以在NiW衬底上获得形貌尺寸一致的钨纳米点,而且钨纳米点在衬底表面均匀分布,有利于氧化物的异质外延生长,本发明制备方法简单,成本低易于实现工业化。
搜索关键词: 一种 尺寸 可控 纳米 制备 方法
【主权项】:
一种尺寸可控的钨纳米点的制备方法,其特征在于由以下步骤组成:(1)将钨酸铵溶解于乙醇和氮甲基吡咯烷酮的混合溶剂中,加入聚乙二醇作为添加剂,配制成钨离子摩尔浓度为0.001mol/L的前驱液,其中乙醇与氮甲基吡咯烷酮的体积比为3:2,钨酸铵与添加剂的质量比例为1:1;(2)将步骤(1)的前驱液采用旋涂法涂敷于NiW金属基底上,旋涂的转速为2000rpm,旋涂时间为60s,得到厚度为300nm的湿膜涂层;(3)将步骤(2)的湿膜涂层置于管式炉中,在氩气与氢气的混合气氛中以20℃/min的升温速率将炉内温度从室温升至600℃,并保温0.5h,混合气氛中氢气的体积百分含量为4%,在NiW金属基底上得到高度约为15nm的钨纳米点。
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