[发明专利]半导体装置的制造方法有效
| 申请号： | 201610341995.7 | 申请日： | 2016-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN106169430B | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 角野翼;日坂隆行;中本隆博 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;H01L33/62 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 何立波;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 得到如下半导体装置的制造方法，即，能够在半导体装置的配线层全部形成之前实施测试，能够针对晶体管单体进行测试，而不依赖于半导体装置的电路结构。在衬底(1)之上彼此独立地形成晶体管(2、3)、电路元件(4、5)以及多个接触焊盘(6a～6f)各自的底层配线。在形成有底层配线的衬底(1)之上的整个面形成第1供电层(14)。对第1供电层(14)进行图案化，形成使晶体管(2、3)的各端子与电路元件(4、5)独立并且分别与不同的接触焊盘连接的测试图案(25～28)。使用接触焊盘和测试图案，针对晶体管(2、3)单体进行测试。在测试之后，将晶体管(2、3)和电路元件(4、5)连接而形成电路。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种半导体装置的制造方法，其特征在于，具有如下工序，即：在衬底之上彼此独立地形成晶体管、电路元件以及多个接触焊盘各自的底层配线；在形成有所述底层配线的所述衬底之上的整个面形成第1供电层；对所述第1供电层进行图案化，形成使所述晶体管的各端子与所述电路元件独立并且分别与不同的所述接触焊盘连接的测试图案；使用所述接触焊盘和所述测试图案，针对所述晶体管单体进行测试；以及在所述测试之后，将所述晶体管和所述电路元件连接而形成电路。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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