[发明专利]用于沉积膜层的掩膜板及膜层、阵列基板在审
| 申请号： | 201610342239.6 | 申请日： | 2016-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN105803390A | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 宁智勇;赵永亮;毕鑫;杨宇桐 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 任嘉文 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种用于沉积膜层的掩膜板及膜层、阵列基板，用以通过在掩膜板中增设第二开孔，扩大成膜时的溅射范围，从而改善了沉积得到的膜层薄厚不均的问题。该掩膜板包括：用于溅射的第一开孔，以及与所述第一开孔在水平面上的投影部分重叠的第二开孔。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 掩膜板 阵列 | ||
【主权项】：
一种用于沉积膜层的掩膜板，该掩膜板包括用于溅射的第一开孔，其特征在于，该掩膜板还包括：与所述第一开孔在水平面上的投影部分重叠的第二开孔。
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