[发明专利]耐磨耐湿三银低辐射镀膜玻璃

摘要

耐磨耐湿三银低辐射镀膜玻璃,玻璃基片(1)的表面由下而上依次逐层覆盖第一氧化锌铝膜层(2)、第一银层(3)、第一镍铬膜层(4)、第一氧化锌锡膜层(5)、第二银层(6)、第二镍铬膜层(7)、第二氧化锌锡膜层(8)、第三银层(9)、第三镍铬膜层(10)、第二氧化锌铝膜层(11)、锡氧化硅膜层(12)；应用TSO制备的覆盖层，减少银基镀膜靶材中SiAl材料的使用，节约能源且降低成本，制备工艺更简便，保证玻璃性能的稳定性，具有较低的u值和较高的遮阳系数和G值，节能效果大幅度提升，减少损耗，提高使用寿命，同比普通玻璃的节能水平提高80％以上，且能够在低辐射性能不变的条件下，有效提高耐磨和耐湿性。

主权项

耐磨耐湿三银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片(1)、第一氧化锌铝膜层(2)、第一银层(3)、第一镍铬膜层(4)、第一氧化锌锡膜层(5)、第二银层(6)、第二镍铬膜层(7)、第二氧化锌锡膜层(8)、第三银层(9)、第三镍铬膜层(10)、第二氧化锌铝膜层(11)、锡氧化硅膜层(12)；其特征在于，玻璃基片(1)的表面由下而上依次逐层覆盖第一氧化锌铝膜层(2)、第一银层(3)、第一镍铬膜层(4)、第一氧化锌锡膜层(5)、第二银层(6)、第二镍铬膜层(7)、第二氧化锌锡膜层(8)、第三银层(9)、第三镍铬膜层(10)、第二氧化锌铝膜层(11)、锡氧化硅膜层(12)；具体生产方法包含以下步骤：①玻璃基片(1)清洗干燥，并置于真空溅射区；②一号镀膜室充入氮气和氩气，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第一氧化锌铝膜层(2)作为基层介质层，靶材为氧化锌铝AZO靶，沉积厚度为30～80nm；③二号镀膜室充入氩气，靶材为银靶，采用旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射，在第一氧化锌铝膜层(2)上沉积第一银层(3)，厚度为8～15nm；④三号镀膜室充入氩气，靶材为镍铬靶，采用平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射，在第一银层(3)上沉积第一镍铬膜层(4)作为保护层膜，厚度为2.0～3.5nm；⑤四号镀膜室充入氮气和氩气，靶材为氧化锌锡TZO靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射，在第一镍铬膜层(4)上沉积第一氧化锌锡膜层(5)作为介质层，厚度为30～50nm；⑥回到二号镀膜室，在第一氧化锌锡膜层(5)上沉积第二银层(6)，厚度为8～15nm；⑦回到三号镀膜室，在第二银层(6)上沉积第二镍铬膜层(7)作为保护层，厚度为3～5nm；⑧回到四号镀膜室，在第二镍铬膜层(7)上沉积第二氧化锌锡膜层(8)作为介质膜层，厚度为30～50nm；⑨再回到二号镀膜室，在第二氧化锌锡膜层(8)上沉积第三银层(9)，厚度为8～15nm；⑩再回到三号镀膜室，在第三银层(9)上沉积第三镍铬膜层(10)保护层，厚度为2.0～3.5nm；回到一号镀膜室，在第三镍铬膜层(10)上沉积第二氧化锌铝膜层(11)作为顶层介质层，厚度为30～80nm；五号镀膜室充入氧气和氩气，靶材为锡氧化硅TSO靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射在第二氧化锌铝膜层(11)上沉积锡氧化硅膜层(12)作为覆盖层膜，厚度为2.5～5.0nm；所有膜层全部镀完之后，向镀膜室中充入工艺气体，取出成品即可。