[发明专利]一种红外图像传感器及其制作方法有效
申请号: | 201610343679.3 | 申请日: | 2016-05-24 |
公开(公告)号: | CN106024817B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 彭坤;刘开锋;刘红元 | 申请(专利权)人: | 苏州智权电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 连平 |
地址: | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种新型红外图像传感器,包括:P型硅衬底、第一CMOS、第二CMOS、红外光电二极管、硅基光电二极管。本发明将可探测红外光波的红外光电二极管组成的第一感光单元,与可探测可见光的硅基光电二极管组成的第二感光单元,可按多种矩阵排列在图像传感器CIS的感光阵列,从而可实现同时对可见光、红外光的探测,光电成像。将硫化锌、碲镉汞薄膜先后沉积于硅衬底表面形成的深沟槽内,形成可探测红外光波的红外光电二极管,结合了传统硅基技术上的大规模集成电路制造、以及先进的红外探测器原理,给出可以实现高度集成、低成本的红外图像传感器,本装置集成度高、加工成本低、稳定性好、适合大规模的生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 红外 图像传感器 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种红外图像传感器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:在P型硅衬底(1)上形成第一CMOS(2)和红外光电二极管(3);S2:在P型硅衬底(1)上形成第二CMOS(5)和硅基光电二极管(4);所述步骤S1具体包括如下步骤:S11:在P型硅衬底(1)上依次形成栅氧层和栅极多晶硅;S12:在栅极多晶硅的上方旋涂第一光刻胶(41),干法刻蚀获取栅氧层(211)和栅极多晶硅(212)形成的栅极(21),去除残留光刻胶;S13:在所述栅氧层(211)和所述栅极多晶硅(212)的两侧、所述P型硅衬底(1)的上部注入源极离子和漏极离子,形成源极(22)和漏极(23);S14:在P型硅衬底(1)的上表面和所述栅极(21)的上表面旋涂第二光刻胶(42)和第三光刻胶(43),干法刻蚀获取第一区域(51),去除残留光刻胶;S15:将硫化锌、碲镉汞薄膜先后沉积于所述第一区域(51)内,形成由硫化锌层(31)和碲镉汞层(32)组成的红外光电二极管(3);S16:在硫化锌层(31)上连接第一电极(33),在碲镉汞层(32)上连接第二电极(34),在栅极(21)上连接第三电极(24),在源极(22)上连接第四电极(25),在漏极(23)上连接第五电极(26)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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