[发明专利]一种红外图像传感器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610343679.3 申请日: 2016-05-24
公开(公告)号: CN106024817B 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 彭坤;刘开锋;刘红元 申请(专利权)人: 苏州智权电子科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 连平
地址: 215123 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种新型红外图像传感器,包括:P型硅衬底、第一CMOS、第二CMOS、红外光电二极管、硅基光电二极管。本发明将可探测红外光波的红外光电二极管组成的第一感光单元,与可探测可见光的硅基光电二极管组成的第二感光单元,可按多种矩阵排列在图像传感器CIS的感光阵列,从而可实现同时对可见光、红外光的探测,光电成像。将硫化锌、碲镉汞薄膜先后沉积于硅衬底表面形成的深沟槽内,形成可探测红外光波的红外光电二极管,结合了传统硅基技术上的大规模集成电路制造、以及先进的红外探测器原理,给出可以实现高度集成、低成本的红外图像传感器,本装置集成度高、加工成本低、稳定性好、适合大规模的生产。
搜索关键词: 一种 新型 红外 图像传感器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种红外图像传感器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:在P型硅衬底(1)上形成第一CMOS(2)和红外光电二极管(3);S2:在P型硅衬底(1)上形成第二CMOS(5)和硅基光电二极管(4);所述步骤S1具体包括如下步骤:S11:在P型硅衬底(1)上依次形成栅氧层和栅极多晶硅;S12:在栅极多晶硅的上方旋涂第一光刻胶(41),干法刻蚀获取栅氧层(211)和栅极多晶硅(212)形成的栅极(21),去除残留光刻胶;S13:在所述栅氧层(211)和所述栅极多晶硅(212)的两侧、所述P型硅衬底(1)的上部注入源极离子和漏极离子,形成源极(22)和漏极(23);S14:在P型硅衬底(1)的上表面和所述栅极(21)的上表面旋涂第二光刻胶(42)和第三光刻胶(43),干法刻蚀获取第一区域(51),去除残留光刻胶;S15:将硫化锌、碲镉汞薄膜先后沉积于所述第一区域(51)内,形成由硫化锌层(31)和碲镉汞层(32)组成的红外光电二极管(3);S16:在硫化锌层(31)上连接第一电极(33),在碲镉汞层(32)上连接第二电极(34),在栅极(21)上连接第三电极(24),在源极(22)上连接第四电极(25),在漏极(23)上连接第五电极(26)。
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