[发明专利]制造定径切趾光圈的方法有效
申请号: | 201610344360.2 | 申请日: | 2013-04-03 |
公开(公告)号: | CN106066534B | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 罗伯特·W·瓦尔特斯;罗伯特·H·唐;凯文·W·赛贝特;福里斯特·R·布莱克本 | 申请(专利权)人: | PPG俄亥俄工业有限公司 |
主分类号: | G02B26/02 | 分类号: | G02B26/02;G03B9/04 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾红霞;顾欣 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了用于大规模生产定径切趾光圈的方法,所述方法包括以下步骤:a.提供用于所述切趾光圈的光学基板;b.在所述光学基板上沉积掩模;c.将含有光学染料的材料沉积在所述光学基板上;以及d.使所述光学染料扩散到所述光学基板中,其中,当从所述掩模和所述光学基板的上方观察时,所述染料将扩散到所述光学基板中而至少部分地到所述掩模下方,从而形成切趾光圈。该方法使用了利用各种方法使染料扩散到光学元件中的技术以及各种浇铸与成型形成技术。 | ||
搜索关键词: | 光学基板 光圈 光学染料 定径 掩模 扩散 材料沉积 沉积掩模 方法使用 光学元件 染料扩散 染料 成型 浇铸 观察 制造 | ||
【主权项】:
1.一种制造定径切趾光圈的方法,所述方法包括以下步骤:a.提供用于所述切趾光圈的光学基板;b.在所述光学基板上沉积掩模;c.将含有光学染料的材料沉积在所述光学基板上;以及d.固化沉积在所述光学基板上的含有所述光学染料的所述材料;e.其中,固化使所述光学染料扩散到所述光学基板中,并且其中,当从所述掩模和所述光学基板的上方观察时,所述染料将扩散到所述光学基板中而至少部分地到所述掩模下方,从而形成切趾光圈。
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