[发明专利]一种微纳有序阵列结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201610344928.0 | 申请日： | 2016-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN107417945B | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 常同鑫;黄海瑛;何天白 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春应用化学研究所 |
| 主分类号： | C08J7/00 | 分类号： | C08J7/00;C08J5/18;C08J7/12;B22F9/24;C08L53/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 130022 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微纳有序阵列结构及其制备方法，该制备方法包括以下步骤：A)将单层胶体粒子膜组装在嵌段共聚物薄膜的表面，所述嵌段共聚物能发生相分离；B)以组装的胶体粒子为掩模板，通过刻蚀除去未被胶体粒子遮挡的嵌段共聚物；C)将刻蚀后嵌段共聚物薄膜表面的胶体粒子去除，得到具有微纳有序阵列结构的基底。本发明提供的方法能够制得具有微纳有序阵列结构的基底，该微纳有序阵列结构具有较高的分辨率，因而在生物检测、细胞行为研究、微电子等领域有着良好的应用前景。该方法简单，易于操作，易于实现，具有很好的可重复性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有序 阵列 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微纳有序阵列结构的制备方法，包括以下步骤：A)将单层胶体粒子膜组装在嵌段共聚物薄膜的表面，所述嵌段共聚物能发生相分离；B)以组装的胶体粒子为掩模板，通过刻蚀除去未被胶体粒子遮挡的嵌段共聚物；C)将刻蚀后嵌段共聚物薄膜表面的胶体粒子去除，得到具有微纳有序阵列结构的基底。
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