[发明专利]阵列基板、液晶显示面板及阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 201610345005.7 | 申请日： | 2016-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN105785682B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 张蒙蒙 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L27/12;H01L23/552 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板、液晶显示面板及阵列基板的制造方法，该阵列基板包括：第一遮光绝缘层形成在基板上，用于遮住进入基板的部分光线，其包括第一区域和第二区域，均为绝缘材料；第一功能层形成在第一遮光绝缘层的第二区域上，在第一遮光绝缘层的第二区域的遮光作用下避免受到光线的影响；第二功能层形成在第一遮光绝缘层的第一区域和第一功能层上，在第一遮光绝缘层的遮光作用下避免受到光线的影响；第三功能层形成在第二功能层上，在第一遮光绝缘层的遮光作用下避免受到光线的影响；第一功能层、第二功能层以及第三功能层为导体或半导体材料。通过上述方式，本发明能够使各个功能层不被照光，进而避免产生光漏电的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 液晶显示 面板 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；第一遮光绝缘层，形成在所述基板上，用于遮住进入所述基板的部分光线，其包括：间隔设置的第一区域和第二区域，均为绝缘材料；第一功能层，形成在所述第一遮光绝缘层的所述第二区域上，用于实现第一功能，且在所述第一遮光绝缘层的所述第二区域的遮光作用下，避免受到光线的影响；第二功能层，形成在所述第一遮光绝缘层的所述第一区域和所述第一功能层上，用于实现第二功能，且在所述第一遮光绝缘层的遮光作用下，避免受到光线的影响；第三功能层，形成在所述第二功能层上，用于实现第三功能，且在所述第一遮光绝缘层的遮光作用下，避免受到光线的影响；其中，所述第一功能层、第二功能层以及第三功能层为导体或半导体材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610345005.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
