[发明专利]纵型场效应晶体管以及电力转换装置有效

专利信息
申请号: 201610349780.X 申请日: 2016-05-24
公开(公告)号: CN106558616B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 伊奈务;冈彻 申请(专利权)人: 丰田合成株式会社
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 舒艳君;李洋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体装置以及电力转换装置。在半导体装置中抑制耐压的降低并且减少通态电阻。半导体装置具备基板、第一半导体层、第二半导体层、第三半导体层、沟槽以及覆盖沟槽的表面的绝缘膜,第一半导体层的载流子浓度在与面方向正交的厚度方向上形成峰值,上述第一半导体层中载流子浓度成为峰值的高浓度载流子区域在从沟槽远离基板侧的位置上向上述面方向扩张。
搜索关键词: 半导体 装置 以及 电力 转换
【主权项】:
1.一种纵型场效应晶体管,其特征在于,具备:基板,向面方向扩张;第一半导体层,位于比上述基板靠上,并具有n型以及p型中一方的特性且具有与所述基板相同的特性;第二半导体层,位于上述第一半导体层上,并具有n型以及p型中与上述一方的特性不同的另一方的特性;第三半导体层,位于上述第二半导体层上,并具有上述一方的特性;沟槽,从上述第三半导体层贯通上述第二半导体层并凹陷到上述第一半导体层;以及绝缘膜,覆盖上述沟槽的表面,在所述沟槽中隔着所述绝缘膜形成有栅电极,在所述基板的背面连接有漏电极,上述第一半导体层的载流子浓度在与上述面方向正交的厚度方向形成峰值,上述第一半导体层中载流子浓度成为峰值的高浓度载流子区域在从上述沟槽远离上述基板侧的位置上向上述面方向扩张,上述第一半导体层还包括:第一区域,与上述高浓度载流子区域相比位于基板侧;和第二区域,与上述高浓度载流子区域相比位于第二半导体层侧,上述第二区域位于上述沟槽与上述高浓度载流子区域之间,上述沟槽与上述高浓度载流子区域不接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丰田合成株式会社,未经丰田合成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610349780.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top