[发明专利]一种渐变型电磁带隙结构有效

专利信息
申请号: 201610352486.4 申请日: 2016-05-25
公开(公告)号: CN106025549B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 周凯;管有林;国强;项建弘 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: H01Q1/52 分类号: H01Q1/52
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明提供一种渐变型电磁带隙结构,属于微波工程技术领域。包括四个部分:下层圆形金属薄膜、上层金属薄膜、填充在上下两层薄膜之间的损耗介质层以及连接上下两层金属薄膜的金属过孔。所述的上层金属薄膜由许多扇形贴片单元组成,扇形贴片从圆心到半径方向逐渐变大,贴片之间有缝隙,每个贴片单元的中心都有一个金属过孔。下表面为完整的圆片状金属膜,无缝隙。本发明提供的电磁带隙结构在较宽的频带范围内有禁带效果。本发明所述的渐变型电磁带隙结构适用于螺旋天线等超宽带天线领域。
搜索关键词: 一种 渐变 磁带 结构
【主权项】:
1.一种渐变型电磁带隙结构,其特征在于:由上至下依次设置上层金属薄膜、中间损耗介质材料以及下层金属薄膜,上层金属薄膜与下层金属薄膜通过金属过孔连接,下层金属薄膜是圆片状,上层金属薄膜是由扇形贴片单元组成的圆形结构;每个所述的扇形贴片单元的弧度是16°,沿着扇形圆弧切线方向相邻扇形贴片单元之间的角度是2°,每个扇形贴片单元沿着半径方向由小贴片组成,相邻小贴片之间存在缝隙,上层金属薄膜与下层金属薄膜通过金属过孔连接是指每个小贴片的中心处与下层金属薄膜之间设置有金属过孔;每个小贴片上的金属过孔的直径不全相同。
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