[发明专利]光源装置及其制造方法在审
| 申请号： | 201610353201.9 | 申请日： | 2010-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN105891974A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 佐藤行雄;矢部实透;吉原徹;中川康幸;黑川博志 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 黄纶伟;马建军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供一种光源装置及其制造方法。该光源装置具有半导体激光器(LD)、LED、灯等的发光源、以及透镜、光纤等的传送、转印、会聚等的光学部件，将装置内的硫酸根离子量保持在低水准，由此，能够防止硫酸铵附着于光学部件。光源装置具有：光源，其出射光；光学部件，其对从光源出射的光进行处理；以及框体，其收纳光学部件或者安装光学部件，通过切削不含硫成分的材料来形成框体，所述材料露出于表面。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光源装置，其特征在于，该光源装置具有：光源，其出射光；光学部件，其对从所述光源出射的光进行处理；以及框体，其收纳所述光学部件或者安装所述光学部件，所述光学部件和所述框体中所照射的光是平均能量密度为100W/cm2以上的可视光，所述框体是由硫成分的含有量的重量比为30ppm以下的材料形成的，所述材料是黄铜、铝、钛、陶瓷或树脂，所述材料露出于表面，附着于所述框体的硫酸根离子量为2.3ng/cm2以下，铵离子量为4.7ng/cm2以下，防止硫酸铵附着于所述光学部件。
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