[发明专利]一种新型蚀刻药水及其工艺有效
申请号: | 201610353456.5 | 申请日: | 2016-05-26 |
公开(公告)号: | CN106400098A | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 陈业平;区佩金 | 申请(专利权)人: | 区佩金 |
主分类号: | C25F3/14 | 分类号: | C25F3/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种新型蚀刻药水及其工艺,本发明涉及材料蚀刻技术领域;它的工艺流程如下放料——张力调整——前处理出油——三道水洗——酸洗——三道水洗——电解蚀刻——三道水洗——钝化保护——三道水洗——超声波热水洗——纯水洗——吹干——扯片——在线检验——收料包装;使用模具遮蔽的电解蚀刻方法,以缩短制造工期,降低生产成本,做到零污染环境,节能降耗,达到清洁生产的目的。使用模具遮蔽的电解蚀刻方法,以缩短制造工期,降低生产成本,做到零污染环境,节能降耗,达到清洁生产的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 蚀刻 药水 及其 工艺 | ||
【主权项】:
一种新型蚀刻药水及其工艺,它的工艺流程如下:放料——张力调整——前处理出油——三道水洗——酸洗——三道水洗——电解蚀刻——三道水洗——钝化保护——三道水洗——超声波热水洗——纯水洗——吹干——扯片——在线检验——收料包装;其特征在于:所述的电解蚀刻工序中所需的电解蚀刻药水的各组分和浓度如下:氯化钾:200‑500g/L氯化钠:50‑400g/L磷酸:20‑100g/L羟乙基叉二膦酸HEDP:20‑100g/L药水添加剂QP1:15ml/L药水添加剂QP2:5ml/L。
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