[发明专利]掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法在审
申请号: | 201610353518.2 | 申请日: | 2016-05-25 |
公开(公告)号: | CN105785711A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 唐军 | 申请(专利权)人: | 唐军 |
主分类号: | G03F1/80 | 分类号: | G03F1/80 |
代理公司: | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人: | 郑学伟;叶利军 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪山新区坪*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法,其中,掩膜板光罩适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔,包括透明基板金属膜片,透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面;金属膜片平铺于所述第一平面,且所述金属膜片上形成有多个镂空孔,所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。根据本发明提供的掩膜板光罩,确保蚀刻形成的蒸镀孔尺寸和形状的精度更高,同时,操作简单,工艺过程更加简单,效率更高,形成的掩膜板产品的良率更高。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板光罩 制作方法 掩膜板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板光罩,适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔,其特征在于,包括:透明基板,所述透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面;金属膜片,所述金属膜片平铺于所述第一平面,且所述金属膜片上形成有多个镂空孔,所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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