[发明专利]掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法在审

专利信息
申请号: 201610353518.2 申请日: 2016-05-25
公开(公告)号: CN105785711A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 唐军 申请(专利权)人: 唐军
主分类号: G03F1/80 分类号: G03F1/80
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人: 郑学伟;叶利军
地址: 518000 广东省深圳市坪山新区坪*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法,其中,掩膜板光罩适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔,包括透明基板金属膜片,透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面;金属膜片平铺于所述第一平面,且所述金属膜片上形成有多个镂空孔,所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。根据本发明提供的掩膜板光罩,确保蚀刻形成的蒸镀孔尺寸和形状的精度更高,同时,操作简单,工艺过程更加简单,效率更高,形成的掩膜板产品的良率更高。
搜索关键词: 掩膜板光罩 制作方法 掩膜板
【主权项】:
一种掩膜板光罩,适于采用光蚀刻法在一金属基板上蚀刻形成蒸镀孔,其特征在于,包括:透明基板,所述透明基板具有第一平面及与所述第一平面相背的第二平面;金属膜片,所述金属膜片平铺于所述第一平面,且所述金属膜片上形成有多个镂空孔,所述镂空孔的尺寸与所述蒸镀孔的预定尺寸相等。
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