[发明专利]存储装置有效
申请号: | 201610354031.6 | 申请日: | 2016-05-25 |
公开(公告)号: | CN106601745B | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 尹贤淑;尹壮根;金善煐;郑在皓 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L27/11517;H01L27/11551;H01L27/11526 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王占杰;尹淑梅 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了一种存储装置。所述存储装置包括:单元区域,包括与基底的上表面垂直地延伸的通道区域和与通道区域相邻地堆叠在基底上的多个栅电极层;以及外围电路区域,包括设置在单元区域附近的第一有源区域、面积大于第一有源区域的面积的第二有源区域、连接到第一有源区域的多个第一接触件以及连接到第二有源区域的多个第二接触件。所述多个第一接触件之间的距离小于所述多个第二接触件之间的距离。 | ||
搜索关键词: | 存储 装置 | ||
【主权项】:
1.一种存储装置,所述存储装置包括:单元区域,包括存储单元,所述单元区域包括多个通道结构和多个栅电极层,所述多个通道结构均从基底的上表面垂直地延伸,并且所述多个栅电极层堆叠在所述基底上以围绕所述多个通道结构的外表面;以及外围电路区域,包括所述存储单元的外围电路,所述外围电路区域包括第一有源区域,形成在所述基底中,第一栅电极,形成在第一有源区域上,第一源/漏区,形成在位于第一栅电极的一侧处的第一有源区域中,第二有源区域,形成在所述基底中并且具有比第一有源区域的面积大的面积,第二栅电极,形成在第二有源区域上,第二源/漏区,形成在位于第二栅电极的一侧处的第二有源区域中,器件隔离层,设置在第一有源区域与第二有源区域之间,多个第一接触件,连接到第一有源区域的第一源/漏区,以及多个第二接触件,连接到第二有源区域的第二源/漏区,其中,与第一源/漏区连接的所述多个第一接触件中的相邻的第一接触件之间的节距小于与第二源/漏区连接的所述多个第二接触件中的相邻的第二接触件之间的节距。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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