[发明专利]晶体管在审

专利信息
申请号: 201610356218.X 申请日: 2016-05-25
公开(公告)号: CN105826370A 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 王佳佳;丁庆 申请(专利权)人: 深圳市华讯方舟科技有限公司;深圳市华讯方舟微电子科技有限公司
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何平
地址: 518102 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种晶体管,在晶体管的势垒层中设置了低掺杂漏区,由于低掺杂漏区与势垒层中除低掺杂漏区外的区域的电负性的差异,低掺杂漏区的存在可以调节势垒层中二维电子气,改变势垒层中栅极下方的耗尽层的电场强度,使电场重新分布,减小电场峰值,降低陷阱效应,从而提高击穿电压,同时引入了场板,栅极边缘耗尽层边界的弯曲程度减弱,电场分布得到调制,峰值电场减小,陷阱效应降低,进一步提高了击穿电压,在低掺杂漏区和场板的共同作用下,极大地提高了晶体管的击穿电压,增加了晶体管工作的稳定性。
搜索关键词: 晶体管
【主权项】:
一种晶体管,其特征在于,包括势垒层、栅极、漏极、场板以及低掺杂漏区;所述低掺杂漏区设置在所述栅极和所述漏极之间的势垒层内部,且所述低掺杂漏区的一端与漏极的边缘重合,所述低掺杂漏区的另一端与所述栅极的边缘不重合;所述场板与所述栅极连接,所述场板位于所述栅极和所述漏极之间。
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