[发明专利]静态随机存取存储器的布局图案有效
申请号: | 201610356955.X | 申请日: | 2016-05-26 |
公开(公告)号: | CN107346770B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 叶书玮;吴宗训;苏智洺;郭有策 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/11 | 分类号: | H01L27/11 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种静态随机存取存储器的布局图案,至少包含一第一上拉晶体管、一第二上拉晶体管、一第一下拉晶体管、一第二下拉晶体管、一第一存取晶体管以及一第二存取晶体管位于一基底上,多个鳍状结构位于基底上,至少包含有一至少一第一鳍状结构与至少一第二鳍状结构,至少一J状栅极结构,该至少一J状栅极结构包含有一长边部分、一短边部分以及一连接该长边部分与该短边部分的桥接部分,以及至少一第一延伸接触结构,横跨于该至少一第一鳍状结构与该至少一第二鳍状结构,其中该至少一第一延伸接触结构与该桥接部分不重叠。 | ||
搜索关键词: | 静态 随机存取存储器 布局 图案 | ||
【主权项】:
一种静态随机存取存储器的布局图案,至少包含:第一上拉晶体管(PL1)、第二上拉晶体管(PL2)、第一下拉晶体管(PD1)、第二下拉晶体管(PD2)、第一存取晶体管(PG1)以及第二存取晶体管(PG2)位于一基底上;多个鳍状结构位于该基底上,该些鳍状结构至少包含有至少一第一鳍状结构与至少一第二鳍状结构;J状栅极结构,该J状栅极结构包含有一长边部分、一短边部分,以及一连接该长边部分与该短边部分的桥接部分,其中该第一下拉晶体管(PD1)至少包含该J状栅极结构以及该些多个鳍状结构,其中该长边部分横跨于该至少一第一鳍状结构与该至少一第二鳍状结构,而该短边部分则跨越该至少一第一鳍状结构;第一存取栅极结构,位于该基底上,其中该第一存取栅极结构与该J状栅极结构的该短边部分排列方向相同,且该第一存取栅极结构与该J状栅极结构的该短边部分具有相同的一对称轴;以及第一延伸接触结构(N1),横跨于该至少一第一鳍状结构与该至少一第二鳍状结构,其中该第一延伸接触结构与该桥接部分不重叠。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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