[发明专利]散射装置及其制造方法及发光装置、投影系统与照明系统在审
| 申请号： | 201610362446.8 | 申请日： | 2016-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN107436525A | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 上海蓝湖照明科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200093 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种散射装置及其制造方法及发光装置、投影系统与照明系统。散射装置包括透明无机物基底，包括相对的第一表面与第二表面，第二表面的至少部分为粗糙面，该粗糙面具有多个微型凹陷；覆盖粗糙面的过渡介质，包括相对的第三表面和第四表面，第三表面与粗糙面紧密接触以形成过渡介质‑基底界面，过渡介质的折射率满足；或，；基底的微型凹陷的倾斜角为，基底的折射率为，过渡介质的折射率为。本发明实施例中的散射装置具有散射角较小的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 装置 及其 制造 方法 发光 投影 系统 照明 | ||
【主权项】：
一种散射装置，其特征在于，包括：透明无机物基底，包括相对的第一表面与第二表面，第二表面的至少部分为粗糙面，该粗糙面具有多个微型凹陷；覆盖所述粗糙面的过渡介质，包括相对的第三表面和第四表面，第三表面与所述粗糙面紧密接触以形成过渡介质‑基底界面，所述过渡介质的折射率满足：；或，；所述基底的微型凹陷的倾斜角为，所述基底的折射率为，所述过渡介质的折射率为。
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