[发明专利]雪崩光电二极管及其制造方法有效
申请号: | 201610362765.9 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN107437570B | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
发明(设计)人: | 刘东庆 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出了一种雪崩光电二极管及其制造方法,该雪崩光电二极管的感光区与第一导电类型掺杂区以及第二导电类型掺杂区完全隔离,感光面积不受工作电压与雪崩增益的影响,而且感光区被所述第一导电类型掺杂区和第二导电类型掺杂区围绕,能够有效降低边缘漏电且暗电流低、信噪比高。 | ||
搜索关键词: | 雪崩 光电二极管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种雪崩光电二极管,其特征在于,包括:基板;形成在所述基板上方的器件层;形成在所述器件层内的感光区、第一导电类型掺杂区、第二导电类型掺杂区和雪崩增益区,其中,所述第一导电类型掺杂区、雪崩增益区和第二导电类型掺杂区从下到上依次分布;所述第一导电类型掺杂区、第二导电类型掺杂区和雪崩增益区围绕所述感光区且不与所述感光区接触;形成在所述器件层上方的抗反射膜层;穿过所述抗反射膜层且与所述第二导电类型掺杂区连接的阳极金属区,穿过所述抗反射膜层且与所述感光区连接的感光金属区;以及穿过所述基板且与所述第一导电类型掺杂区连接的阴极金属区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于比亚迪股份有限公司,未经比亚迪股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610362765.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的