[发明专利]半导体激光器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610363086.3 申请日: 2016-05-26
公开(公告)号: CN106785912B 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 程洋;刘建平;田爱琴;冯美鑫;张峰;张书明;李德尧;张立群;杨辉 申请(专利权)人: 杭州增益光电科技有限公司
主分类号: H01S5/30 分类号: H01S5/30;H01S5/34
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 310026 浙江省杭州经济技术*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种半导体激光器,其包括衬底以及在所述衬底上依次叠层设置的下限制层、下波导层、量子阱有源区、上波导层以及上限制层;该半导体激光器还包括夹设于所述下波导层与所述量子阱有源区之间的空穴阻挡层。根据本发明的半导体激光器通过在下波导层与量子阱有源区之间制备空穴阻挡层,从而有效阻挡了空穴从量子阱有源区向下波导层、下限制层的N型区一侧泄露,提高了载流子的注入效率,从而提升了该半导体激光器的性能。本发明还公开了上述半导体激光器的制作方法。
搜索关键词: 半导体激光器 及其 制作方法
【主权项】:
一种半导体激光器,包括衬底以及在所述衬底上依次叠层设置的下限制层、下波导层、量子阱有源区、上波导层以及上限制层;其特征在于,所述半导体激光器还包括夹设于所述下波导层与所述量子阱有源区之间的空穴阻挡层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州增益光电科技有限公司,未经杭州增益光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610363086.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top