[发明专利]隔垫物及制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610364981.7 | 申请日： | 2016-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN105807503B | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 冯彦贵;熊正平;李朝;王静;田利军 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种隔垫物及制作方法、显示装置，属于显示器领域。所述方法包括：将光阻材料涂布在基板上形成光阻层；使用掩膜板对光阻层进行曝光，掩膜板上设有图案区域和非图案区域；当光阻材料为负性光阻材料时，图案区域的透过率由中心向边缘递增；当光阻材料为正性光阻材料时，图案区域的透过率由中心向边缘递减；对曝光后的光阻层进行显影和烘烤，得到具有平坦的顶面的隔垫物，从而增大了隔垫物的接触面的面积，增加了机械强度，能够使阵列基板与彩膜基板之间液晶盒的厚度均一性变好，改善了显示质量。 | ||
| 搜索关键词： | 隔垫物 制作方法 掩膜板 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种隔垫物制作方法，其特征在于，所述方法包括：将光阻材料涂布在基板上形成光阻层；使用掩膜板对所述光阻层进行曝光，所述掩膜板上设有图案区域和非图案区域；当所述光阻材料为负性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递增；当所述光阻材料为正性光阻材料时，所述图案区域的透过率由中心向边缘递减；所述图案区域用于将所述光阻层的对应位置形成隔垫物，所述非图案区域用于通过曝光和显影将所述光阻层的对应位置除去；对曝光后的所述光阻层进行显影和烘烤，得到具有平坦的顶面的隔垫物。
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