[发明专利]一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法

摘要

本发明涉及一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法，该方法从天线电性能角度出发，确定了副反射面位置调整参数与远场电性能的关系式，并以副面调整后天线远场电性能最优为目标，建立了以副面调整参数为变量的优化模型，采用合适的优化算法，在可行域内获得了副面位置的最佳调整参数。依据该最佳调整参数驱动副面运动，实现副面位置偏差补偿。本发明主要用于解决现有双反射面天线因结构变形无法快速测量，进而难以快速确定副面最佳位置的问题，可用于指导大型双反射面天线进行副面最佳位置调整，以减小因天线结构变形引起的副面位置偏差影响，使其电性能达到最优。

主权项

1.一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法，其特征在于该方法按下列步骤进行：a、根据双反射面天线的几何关系，获得天线的几何参数信息，其中包括主面的理论面形信息、副面的理论位置信息、副面位置调整坐标系及运动范围信息；b、根据天线的实际工作情况，获得当前天线远场电性能信息；c、利用双反射面天线面形、副面位置和运动坐标系信息及当前天线远场方向图信息，构造副面位置与副面调整后的目标远场方向图的函数关系，即副面调整参数模型：式(1)中F(r′,φ′)为口径场分布函数，根据实际使用的接收机而定；为由坐标原点到远区观察点(θ,φ)的方向矢量；为口径面上的极坐标(r′,φ′)；k为自由空间波常数k＝2π/λ；dQ表示副面位置调整量，C_s为副面位置调整引起的口径面光程差系数矩阵，可根据天线的主面和副面的几何关系确定；A表示口径面面积，E₁(θ,φ)为当前工况下天线实际远场方向图信息；dS′为口径面面积元，dS′＝r′dr′dφ′；d、根据天线当前工况下的远场信息、副面调整参数模型和副面位置运动范围，建立以副面位置调整后天线增益最大为目标的优化模型，其中包括天线的相对增益和副面运动调整量范围约束；e、根据优化模型采用优化算法进行求解，获得双反射面天线当前工况下的副面最佳位置调整参数；调整副面运动机构的位置，实现基于电性能的副面位置最佳调整。