[发明专利]一种三维模型处理方法及装置在审
申请号: | 201610366328.4 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN106023295A | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 崔健;李铎 | 申请(专利权)人: | 美屋三六五(天津)科技有限公司 |
主分类号: | G06T15/04 | 分类号: | G06T15/04;G06T15/60;G06T15/50;G06T17/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 100097 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种三维模型处理方法,包括:获取三维模型以及所述三维模型的材质;根据所述三维模型的材质,设置所述三维模型的材质参数;根据所述材质参数,生成所述三维模型的阴影贴图;根据所述材质参数,生成所述三维模型的环境光遮蔽效果;将所述阴影贴图和所述环境光遮蔽效果烘焙至所述三维模型,生成带光影效果的三维模型。本发明实施例提供的三维模型处理方法,根据制作者指定的三维模型的材质,直接生成三维模型的阴影贴图和环境光遮蔽效果,节约了模型的制作时间,减少了制作者学习建模制作的时间和成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 三维 模型 处理 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种三维模型处理方法,其特征在于,包括:获取三维模型以及所述三维模型的材质;根据所述三维模型的材质,设置所述三维模型的材质参数;根据所述材质参数,生成所述三维模型的阴影贴图;根据所述材质参数,生成所述三维模型的环境光遮蔽效果;将所述阴影贴图和所述环境光遮蔽效果烘焙至所述三维模型,生成带光影效果的三维模型。
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